HCL等腐蝕性氣體被廣泛用戶各類化工合成的原料，由于其含水后會(huì)有腐蝕性,腐蝕裝備并發(fā)生副反應(yīng)，很多場(chǎng)合要求水分含量在10 ~ 200ppm。本裝置具有以下特性：真空深度再生,產(chǎn)品含水低,外置循環(huán)冷卻，內(nèi)置熱超導(dǎo)管進(jìn)行加熱，可以大幅減少氮?dú)庀?，系統(tǒng)全自動(dòng)程序化運(yùn)行。